膜厚计原理

膜厚计的测量方法有多种，根据测量对象使用合适的装置。以下五种方法具有代表性。

1、光谱干涉膜厚仪

这是利用光干涉的膜厚计。当光线进入待测物体时，会在薄膜的正面和背面发生反射。这两个反射光之间存在相移，并且该相移的发生取决于薄膜的厚度。当波同相位重叠时，它们会相互增强，而当它们以相反相位重叠时，它们会相互减弱，因此可以通过测量这种干涉差来测量厚度。

2、红外膜厚仪

这是利用红外线被测量对象物吸收的原理的膜厚计。当用红外线照射待测物体时，根据待测物体的材料和厚度，特定波长的红外线被吸收。该特性用于根据通过划分透射光或反射光获得的光谱来测量薄膜厚度。通过预先测量被测材料的吸收率与膜厚的关系，可以计算出被测材料的膜厚。

3、电磁膜厚计

这是利用磁通密度变化的膜厚计。这是当测量目标形成在磁性金属表面上时使用的测量方法，磁通量是利用密度变化这一事实的。但只有当被测物体与金属接触时才能使用，且被测物体不是金属。

4.涡流膜厚计

涡流膜厚计利用线圈产生的磁通量的变化来测量被测物体的厚度。通电的线圈周围会产生磁通，当线圈靠近被测量物时，磁通会根据被测量物的厚度而变化。通过检测该磁通量的变化来测量被测物体的厚度。

5、超声波膜厚计

超声波膜厚计是利用超声波反射的膜厚计。当超声波从被测物体的表面发射时，它会穿过物体的内部并从背面反射。可以根据反射发生所需的时间来测量厚度。

例如，在测量玻璃等透明薄膜的厚度时，使用使用宽带光的分光干涉膜厚计或使用红外光的红外膜厚计。另一方面，这些类型的膜厚计不能用于不透光的材料，例如金属。

测量金属电镀等薄膜时，使用利用磁通量变化的电磁式膜厚计和利用涡流的涡流式膜厚计。此外，如果难以触摸被测物体，也可使用超声波涂层测厚仪等非接触式涂层测厚仪。