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半导体晶圆紫外线(UV)臭氧清洗设备

更新时间:2024-09-23      浏览次数:97

半导体晶圆紫外线(UV)臭氧清洗设备

半导体晶圆紫外线(UV)臭氧清洗设备
波长185纳米、254纳米
目的清洁/修改
行业半导体制造
待安装设备半导体清洗设备

UV照射设备用于清洗半导体晶圆。紫外线照射会产生臭氧,去除晶圆表面的有机物。半导体晶圆紫外臭氧清洗设备可用于原型/开发和批量生产。原型机和开发机是半自动的,生产能力低,而量产机是自动化机。

UV照射设备采用185nm和254nm汞灯作为光源。当185nm紫外线被氧气吸收时,产生臭氧(O3)并产生活性氧。

技术文件《审查半导体制造领域的紫外线照射设备以实现成本降低》


这个应用程序用过的解决问题的例子

  • 更换晶圆周边曝光光源,成本降低30%以上

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    • 目的

      接触

    • 行业

      半导体制造

    • 设备

      涂布机开发商

    • 波长

      365nm

    • 任务

      初始成本和运行成本降低



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